STIL 模塊化光學(xué)筆“DUO"原理分析

實(shí)現(xiàn)更精確的表面形狀測(cè)量。 更寬的測(cè)量范圍 除了先前型號(hào)中使用的
測(cè)量方法（“共聚焦色度模式"）外，還安裝了新的“干涉測(cè)量模式"。 現(xiàn)在可以支持更精確的表面輪廓測(cè)量。 兩種模式都可以根據(jù)所需的測(cè)量精度使用，從而擴(kuò)大了應(yīng)用范圍。

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控制器可用于共聚焦色度模式和干涉測(cè)量模式。 與以前的型號(hào)一樣，系統(tǒng)配置易于使用且簡(jiǎn)單，只需根據(jù)所需的測(cè)量精度更換筆式模塊即可。

測(cè)量原理（干涉測(cè)量模式）

光源發(fā)出的光會(huì)反射在測(cè)量對(duì)象、參考板和參考平面上。 此時(shí)，兩個(gè)反射光之間存在光程差。 如圖所示，如果將參考板插入待測(cè)物體的前面并盡可能靠近，使光程差進(jìn)入干涉距離，則兩個(gè)反射光之間會(huì)發(fā)生干涉。 由于這種干涉的光譜強(qiáng)度是由波長調(diào)制的，因此可以通過軸向顏色校正光學(xué)筆進(jìn)行測(cè)量和分析，以實(shí)現(xiàn)更精確的厚度測(cè)量。